Sistem Pemurnian Gas Stabil Untuk Perlindungan Anneal, Perlindungan Aglomerasi
| Name: | Sistem Pemurnian Gas | Capacity: | 100-5000NM3/H. |
| Purity: | >99,9995% | Dew point: | -70 ℃ |
| Application: | Perlindungan Anneal dan Aglomerasi | Feature: | keluaran yang stabil |
| High Light: | Atmosfer Perlindungan Anneal yang Stabil,Perlindungan Aglomerasi Pasokan nitrogen,Pembersihan gas kelas metalurgi |
||
Sistem Pemurnian Gas Stabil Untuk Perlindungan Anneal, Perlindungan Aglomerasi
Prinsip Sistem Pemurnian Gas:
Melalui Oksigen dan Hidrogen dapat membuat air di bawah fungsi catalyzator, Plus Hidrogen menjadi
Nitrogen, gas campuran akan membuat reaksi dalam peralatan penghilang oksigen yang akan penuh tinggi
catalyzator efisiensi, untuk menghilangkan pengotoran dll oksigen, menyerap prinsip kering waktu ganda untuk
eliminate water , getting the high purity Nitrogen. menghilangkan air, mendapatkan Nitrogen dengan kemurnian tinggi. catalyzator will be the crucial part during the whole catalyzator akan menjadi bagian penting selama keseluruhan
menghilangkan proses oksigen, sementara palladium dll logam mulia adalah kunci dalam katalisator, oleh karena itu kami juga
called catalyzator for palladium catalyzator. disebut catalyzator untuk catalyzator paladium. Also called Palladium catalyst. Juga disebut katalis Palladium.
Karakteristik Sistem Pemurnian Gas:
1. Gas mengandung Hidrogen berlebihan, cukup cocok untuk aplikasi gas reduksi, hidrogen
konten dapat dikontrol
2. Cukup prinsip, struktur sempurna, konsumsi daya rendah
3. Indeks gas yang stabil, pengotor yang lebih rendah
4. Sistem otomatis atau tanpa orang yang bertugas.
5. Banyak aplikasi, tidak ada persyaratan khusus untuk bahan baku gas.
Deskripsi Sistem Pemurnian Gas:
|
Tidak |
Barang |
Spesifikasi |
Catatan |
|
1 |
Kemurnian |
> 99,9995% |
|
|
2 |
Tekanan |
≤6bar |
Disesuaikan |
|
3 |
Titik embun |
≤ - 70 ℃ |
Bahkan lebih rendah |
|
4 |
Konten oksigen |
≤3ppm |
|
|
5 |
Kapasitas |
5-5000 Nm3 / jam |
|
|
6 |
Metode memproduksi |
Ditambah hidrogen |
H2 + O2 = Reaksi H2O |
Indeks Teknis:
|
Tidak |
Barang |
Spesifikasi |
Catatan |
|
1 |
Operasikan tekanan |
6 bar |
Disesuaikan |
|
2 |
Titik embun |
-70 ℃ |
Bahkan lebih rendah |
|
3 |
Konten oksigen |
≤3 ppm |
|
|
4 |
Konten hidrogen |
0,1% ~ 5% |
|
|
5 |
Kapasitas |
5-5000Nm3 / jam |
|
|
6 |
Kemurnian |
> 99,9995% |
|
Aplikasi Sistem Pemurnian Gas:
1. Metalurgi: Untuk perlindungan anil, perlindungan aglomerasi, mencuci dan meniup tungku, dll.
Digunakan dalam bidang-bidang seperti perawatan pemanasan logam, metalurgi serbuk, bahan magnetik, proses tembaga,
mesh logam, kawat galvanis, semikonduktor, dll.
2. Industri kimia dan material baru: Untuk gas bahan kimia, pipa penghembus, penggantian gas,
perlindungan gas, transportasi produk, dll. Digunakan dalam bidang-bidang seperti bahan kimia, serat elastis uretan, karet,
plastik, ban, poliuretan, teknologi biologis, menengah, dll.
3. Industri elektronik: Untuk enkapsulasi, aglomerasi, anil, deoksigenasi, penyimpanan elektronik
products. produk. Used in fields such as peak welding, circumfluence welding, crystal, piezoelectricity, electronic Digunakan dalam bidang-bidang seperti pengelasan puncak, pengelasan keliling, kristal, piezoelektrik, elektronik
porselen, pita tembaga elektronik, baterai, bahan paduan elektronik, dll.